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 要解决这个问题有二种方法──一是采用低电阻的铜当导线材料；从前的半导体制程采用铝，铜的电阻比铝还低三倍。二是选用Low-KDielectric(低介电质绝缘)作为介电层之材料。在制程上，电容与电阻决定了技术。当时的IBM发表了铜制程与Low-Nvidia执行长兼总裁黄仁勋说：「现在的联电在端制程并未，策略上专注于12吋晶圆的40以下纳米、尤其28纳米，和8吋晶圆成熟制程。除了电脑和手机外，如通讯和车用电子芯片，几乎都采用成熟制程以控制良率、及提供完善的IC给予客户。公司下设以下机构:

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