VUV真空紫外组 光清洗机助您的清洗工艺完成从TN STN TFT的升级航天宏达完全自主研发的真空紫外光清洗机获国家发明专利保护！ 一流的元器件生产制造 + 一流的研发设计 ，造就一流的尖端设备！ 我们专门为大专院校实验室、研究所实验室、企业实验室等需要高洁净度清洗的机构，设计制造了小型机组，以满足广大用户的迫切需求！ 真空紫外光清洗机除用于液晶生产中需清洗的各道工序外，还有十分广泛的领域如：1）晶片清洗（ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅）2）带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理3）在液晶显示器件、半导体硅晶片；4）集成电路、高精度印制电路板5）光学器件、密封技术。等等 在光电显示领域，其液晶品种从TN STN TFT的逐步升级；从黑白到彩色，从低分辨率向高分辨率，从小屏幕到大屏幕的发展已成为必然趋势。同样的，在高精度表面清洗领域也在进行着技术的革命与升级，原有的超声、化学清洗已不能满足当前清洗洁净度要求。 我公司借鉴国际上最新的光化学原理技术。开发出了具有独立知识产权的符合中国国情的光清洗机，其清洗洁净度达到 原子级 。基本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法（例超声波）不同，与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术，技术关键在于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链，断裂成小分子、原子、自由基等，经光子的作用产生激态氧原子O*，O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO2,H2O等挥发，随排气排出，不留任何痕迹，属干式法，无接触型；常温、常气压下无损伤，不使用任何化学药品，环保无二次污染；对物体表面的最难清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。大功率特种专用紫外光源是其中的关键技术，其波长已延伸到真空紫外段，我公司结合中国航天技术资源，经几年攻关已完成多项专利技术，如：真空紫外光谱仪，大功率热、冷阴极光清洗机专用光源，清洗效果测试设备等。我公司的光清洗机系列产品，主要创新点是：宽温区恒照度、大功率紫外光源、优化气氛控制的自控系统、自动化程度高、自净化设计等。具有，工作稳定，利用光子作用实现了对污染物的分解、氧化、气化，并被排除。