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低污染特性的光学保护膜，采用了厚型的聚酯薄膜作为基材，以及低污染的再剥离型丙烯酸胶粘剂加工而成的光学保护膜。 特点 1000级洁净环境下加工，洁净度极优。 低粘性，贴附后经时粘着力变化小。 再剥离后低污染、无残胶。 采用厚的透明PET基材、适合于半冲切。 用途 光学薄膜、光学胶带模切载体。 PFC、PCB工程保护。 手机镜片工程保护