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供应UB-C氰铜添加剂、电镀添加剂、电镀光亮剂、电镀中间体、碱铜光亮剂
日期:2013-07-07 08:37  点击:883
 
 
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品牌:攸碧晟
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供应:5000公斤
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产品品牌:攸碧晟
产品型号:UB-C

UB-C青化镀铜添加剂一、特征1. 为电镀锌基铸件时必备的铜层。由于光亮青化镀铜层平滑、紧密、幼细,故可增长青化镀铜时间,使整件锌基铸件完全被铜层镀覆,为后继镀酸铜及亮镍提供保障,不致发生故障。2. 电流密度范围宽广,沉积速度较快。3. 可作滚镀及挂镀。4. 杂质容忍度高,易于控制。5. 如镀件全部为钢铁工件时,氢氧化钠含量可提高至10~30g/l。二、工艺组成
溶液组成控制范围操作条件控制范围
氰化亚铜氰 化 钠酒石酸钾钠氢氧化钠50~70g/l70~100g/l20~30g/l3~10g/l温 度℃电流密度阳极材料搅拌方式50~700.5~4A/dm2无氧电解铜空气或机械
注:酒石酸钾钠和诺切液二选一使用。
添加剂组成开 缸 量消 耗 量溶液控制控制范围
UB-C3高位剂UB-C4低位剂诺 切 液5~7ml/l5~7ml/l30~50ml/l100ml/ka.h300ml/ka.h带出消耗金 属 铜游离氰化钠氢氧化钠37~50g/l15~20g/l3~10g/l
三、生产维护金属铜由氰化亚铜补充,同时应加入同样分量的氰化钠以保持游离氰化钠的含量在正常水平。诺切液的使用可有效地促进阳极的溶解及减少氰化钠用量,除开缸外每天适量的添加有利于镀层结晶细化。诺切液的消耗以带出为主。UB-C3高位光亮剂帮助高电流区镀层的平滑,能降低镀层出现针孔的机率,与氰化亚铜作用相似,使镀层颜色偏红。UB-C4低位光亮剂帮助中低位电流区镀层的光亮平整,能拓宽镀层的光亮范围,与氰化钠作用相似,使镀层颜色偏白。四、建议定期的活性炭处理以及除去过量的碳酸钠对镀液的长期稳定有良好的作用。五、配套产品 UB-C5氰化镀铜深度剂、UB-C6氰化镀铜除锌剂、UB-C7氰化镀铜锌抑制剂、UB-C8氰化镀铜促进剂、UB-C9氰化镀铜铬处理剂(非保险粉类)、UB-C10氰化镀铜抑雾剂。
联系方式
公司:扬州市攸碧晟贸易有限公司
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姓名:彭海泉(先生)
电话:86-0514-87633077
手机:18652797373
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