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半导体膜厚测试仪 博曼膜厚测试仪资料
日期:2014-05-06 10:05  点击:6
 
 
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博曼半导体膜厚测试仪有着非破坏,非接触,多层合金测量,高生产力,高再现性等优点的情况下进行表面镀层厚度的测量,从质量管理到成本节约有着广泛的应用。
行业用于电子元器件,半导体,PCB,LED支架,五金电镀,连接器等……多个行业表面镀层厚度的测量.                                        
应用领域:黄金、铂、银等贵金属和各种首饰的含量检测;金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定;贵金属加工和首饰加工行业;银行、首饰销售和检测机构;电镀行业。
博曼半导体膜厚测试仪技术指标:
元素分析范围:从AL到U
一次性可同时分析多层镀层
分析厚度检测出限最高达0.01um
同时可分析多达5层以上镀层
相互独立的基体效应校正模型,最先进厚度分析方法
多次测量重复性最高可达0.01um
长期工作稳定性小于0.1um(5um左右单镀层样品)
温度适应范围:15℃~30℃
输出电压220±5V/50HZ(建议配置交流净化稳压电源)
博曼半导体膜厚测试仪结构紧凑、坚固耐用、用于质量控制的可靠的台式X射线荧光分析设备,提供简单、快速、无损的镀层厚度测量和材料分析。
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