品牌:晶和
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纳米二氧化硅抛光液
13305631332, 13305631650，Qq:1830343958
我公司系列二氧化硅抛光液产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度二氧化硅抛光液，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标：
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型号 |
外观 |
粒径 |
含量 |
溶剂 |
应用 |
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VK-SP15W |
白色乳液 |
10nm |
20% |
水 |
精密抛光 |
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VK-SP30W |
白色乳液 |
30nm |
20% |
水 |
精密抛光 |
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VK-SP60W |
白色乳液 |
60nm |
20% |
水 |
精密抛光 |
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VK-Sp15E |
白色乳液 |
10nm |
20% |
乙二醇 |
精密抛光 |
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VK-SP30E |
白色乳液 |
30nm |
20% |
乙二醇 |
精密抛光 |
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VK-SP60E |
白色乳液 |
60nm |
20% |
乙二醇 |
精密抛光 |
包装：
