品牌:西尼特（北京）电炉有限公司
供应:1个
| 加工定制:是 | 最大电压: （V） |
| 功率: （W） | 额定温度:600（℃） |
| 主要用途:半导体器件和集成电路的钝化，用以提高器件和集成电路可靠性。 |
※应用领域：
CNT生产的PECVD（等离子增强化学气相淀积）设备是一种用于在基片上生成高质量SiNx和SiO2薄膜的专用设备。淀积温度能够较高 (100～600oC可调 ) ，特别适用于半导体器件和集成电路的钝化，用以提高器件和集成电路可靠性。目前，它已成为微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。
※产品描述：
CNT公司PECVD设备主要由全真空专用不锈钢腔体，分子泵高真空系统，电源，生长机体载体及温控系统，独立排气和生长压力调节系统，冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜等。
※技术指标：
参 数 名 称 | 单 位 | 配置 |
沉积类型 | 二氧化硅，氮化硅，类金刚石等 | |
电 源 | 射频电源，带正向功率和反射功率计指示，带匹配器 | |
加热系统 | 平板式双反应室系统，带加温和匀气系统 | |
工 作 温 度 | ℃ | 100~600℃ |
基片台尺寸 | ( H)mm | 1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
基片台转速 | 转速0-20RPM | |
控 温 精 度 | ℃ | 1 |
极限真空 | pa | 8.0 10-5 |
密封系统 | 磁流体密封 | |
水冷、气路系统 | 冷却水循环机、无噪声气泵 | |
报警及保护 | 对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施 | |
真空系统 （选 配） | 真空系列 | 单级机械泵、扩散泵机组、分子泵 |
工作腔体 | 不锈钢 | |
气氛系统 | 浮子流量计、进口、国产质量流量计 | |
记录装置 | 进口、国产无纸记录仪 | |
备注：西尼特可根据阁下要求提供各种非标产品的设计制造，欢迎来函、来电咨询！ 24小时热线：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223 cntdl@sina.com http://www.cimitdl.com | ||
