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概述 EdwardsSTPA1303C是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。Edwards的先进转子技术可实现一流的性能和最大的制程灵活性。STPA1303C已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。 应用 金属（铝）属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物） 电子回旋共振(ECR)刻蚀 薄膜沉积CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD 溅射 离子注入源，射束线泵送端点站 MBE 扩散 光致抗蚀剂脱模 晶体/晶膜生长 晶片检查 负载锁真空腔 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜 高能物理：射束线、加速器 放射线应用：融合系统、回旋 功能和优势 先进的转子技术 更高的气体吞吐量 最大的制程灵活性 无油 低振动 高度可靠 免维护 可用于严苛制程 使用寿命延长 先进的控制器设计 自动调整 自行诊断功能 直流电机驱动 无电池运行 紧凑型设计 占地面积小 半机架控制器 技术数据 入口法兰 ISO200F 出口 KF40 吹扫口 KF10 水冷却接头 PT1/4 抽速 N2 1300ls-1 H2 800ls-1 压缩比 N2 108 H2 103 加热时的极限压力 10-7Pa(10-9Torr) 最大连续出口压力* 270Pa(2Torr) 最大氮气吞吐量* 1500sccm 额定速度 32500rpm 启动时间 7分钟 最高入口法兰温度 120 C 输入电压 200至240( 10)V交流 功耗 0.85kVA 泵重量 39kg 控制器重量 9kg *水冷却