岩征仪器光清洗机是一种干式清洗，不需要任何的溶剂，是非常高效的精密清洗方式，同时对清洗表面没有损伤。紫外臭氧清洗技术作为硅片清洗，TFT玻璃基等清洗应用，也是表面改性的一种非常重要的技术。

岩征仪器光清洗机光清洗过程提供一种简单，经济，快速获得超洁净的表面，去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝*等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗过程几分钟就可以达到专业级的清洁效果。
   岩征仪器光清洗机可以去除：
皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。
怎样说是“超”洁净？
    接触角测量方法4－5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试，在冷凝和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。通常情况下，使用清洗或是超声清洗工序后，清洁关键表面认为完成。紫外臭氧清洗提供一种新的清洗尺度。在传统清洗工序后加入紫外清洗的应用，产品的性能和可靠性的提升不断的证明这种新的清洗尺度的价值。
   岩征仪器光清洗机工作原理：是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温发生，并且只需要1到几分钟完成。 
岩征仪器光清洗机关键特性:
    •间歇式灯泡工作方式。
    •滑行部件托盘－光滑－低震动，滚珠轴承系统－高度到1.5英寸。 
    •坚固耐用，全部不锈钢结构 
    •长寿命。低压石英水银蒸汽灯发射254nm和185nm UV，促进快速氧化，去除微量的有机残留物。 
    •全面UV保护让设备操作更安全。
    •更低设备采购成本和操作成本。 
    •0-999秒/分钟/小时定时器，能够精确控制。
    •UV "ON"指示灯和可见窗口。 
    •操作简单：设定定时器，打开门，抽出托盘，将元件放在托盘上。将托盘滑入并关闭门。在清洗操作过程结束有蜂鸣声。打开门，移开全部的清洗元件。

岩征仪器光清洗机典型应用包括：

    •表面的原子级清洗 
  •聚合物粘接
  •去除有机分子
  •释放捕获的无机分子
  •微流控制作
  •微米/纳米构型
  •紫外光固化
  •表面化学改性
  •表面杀菌
  •表面氧化
  •金属粘结准备