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品牌:日本
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FMR 1、 特性 1)FMR是负性感光抗蚀剂，有较好的耐酸、耐酸性。 2)FMR的解像性比较好，由于抗蚀剂中的金属离子含量极少，所以适合于半导体管（电晶体）、二极 体、IC（积成电路）和LSI（大规模高密度积成电路）等方面使用。 2、 使用方法 1)表面处理 对金属板进行完全的脱脂、脱锖，请用本公司的Neocupron(用水稀释5-10倍)和弱碱水（2%氨水进行中和， 脱脂后请充分用水洗。 2)涂布处理 可用多种涂布方法如旋转、浸蘸、喷涂等。 3)烘干 置入热风恒温干燥器中，80-100℃，20分钟：或置于加热板上，80-100℃2分钟。 4)曝光 用i线（365nm）~g 线（436nm）曝光。 5)显象 使用FMR显像液，在常温下显影1分钟，用FMR洗涤液冲洗澡间30秒。 6)烘烤 在150℃的情况下，加热20-30分钟，或置于加热板上，150℃，3分钟，可提高耐腐蚀性。 7)蚀刻 按常规处理 8)剥膜 使用FMR剥膜液，在常温下浸渍2-3分钟，然后用水洗。