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研究用真空烧结炉特点：
适用于无机材料的成形烧结，原料反应烧结的制备。同时也适用于金属材料的粉未冶金烧结，还适用于表面喷涂复合材料的高温烧结处理。此真空炉为高校，科研机构专用真空炉，根据原材料的不同，可以选用不同的加热体，可以选择石墨，钼屏，钨屏，金属钽等。
研究用真空烧结炉型号规格：
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设备名称 |
产品型号 |
加热元件材质 |
设备形式 |
取料方式 |
有效工作区 |
最高加热 |
常用工作 |
加热功率 |
冷态 |
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2000℃真空 |
VVSgr-30-2000 |
石墨 |
立式 |
上取料 |
Φ150×150 |
2000 |
1800 |
30 |
6.67*10-3 |
|
VVSgr-60-2000 |
石墨 |
立式 |
下取料 |
Φ200×250 |
2000 |
1800 |
60 |
6.67*10-3 |
|
|
1600℃真空 |
VVSmo-20-1600 |
钼丝 |
立式 |
上取料 |
Φ150×150 |
1600 |
1500 |
20 |
6.67*10-3 |
|
VVSmo-50-1600 |
钼丝 |
立式 |
下取料 |
Φ200×250 |
1600 |
1500 |
50 |
6.67*10-3 |
|
|
2000℃真空 |
VVSw-30-2000 |
钨丝 |
立式 |
上取料 |
Φ100×120 |
2000 |
1800 |
20 |
6.67*10-3 |
|
VVSw-60-2000 |
钨丝 |
立式 |
下取料 |
Φ150×150 |
2000 |
1800 |
50 |
6.67*10-3 |
公司网址
www.czjindiandry.com
